管式爐-上海添時科學儀器有限公司

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單溫區管式爐

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超聲熱化分解爐

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現在聯系 GSL-1500X-MGL-81500℃ 8通道管式爐

GSL-1500X-MGI-8 是一款8通道管式爐，其爐管直徑為Φ50mm,8個通道獨立控溫，其最高溫度可以達到1500℃，可用于高通量法進行金屬材料的熱處理實驗，快速得到所需成分的相圖。《查看更多》

現在聯系 OTF-1200X-VIII-80-GF高溫高壓管式爐

OTF-1200X-VII-80-GF是一款高溫高壓管式爐，爐體擁有8個溫區。儀器中配有氣體控制柜以及氧分析儀，可使爐管內的氣壓在升降溫過程中保持恒定，特別是對于氧化物的處理，可使爐管內的氧分壓保持恒定。爐管采用高溫鎳基合金鋼制作，最高可耐溫1100℃。此款高溫高壓爐特意設計為氧化物超導線和氧化物陶瓷進行熱處理。《查看更多》

現在聯系 OTF-800X-S5-H2800℃氫氣管式爐

OTF-800X-S5-H是一款小型氫氣管式爐，使用與材料在氫氣環境下熱處理。配有氫氣報警器，探測有氫氣泄露是可切斷進氣閥。《查看更多》

現在聯系 OTF-1200X-PGEP超聲熱化分解爐

OTF-1200X-PGEP是一款多功能的合成系統，針對于合成各種納米結構氧化物以及納米材料的復合包覆工藝。此款儀器有三個主要模塊組成：超聲霧化裝置、1200℃管式爐和高壓靜電收集裝置組成。材料制作大概分為三個步驟：前驅體霧化、加熱和納米顆粒收集。此款系統是一款非常先進的合成系統，可廣泛應用于納米材料制備、電極材料包覆復合等方面。《查看更多》

現在聯系 OTF-1200X-S-VT1200℃立式真空小管式爐

1200℃立式真空小管式爐OTF-1200X-S-VT是一款小型開啟式立式管式爐，適合于對樣品在真空或氣氛保護環境下吊燒和淬火。采用PID控制器進行溫度調節，可設置30段升降溫程序，控溫精度為± 1℃。《查看更多》

現在聯系 OTF-1200X-4-R1200℃單溫區可傾斜旋轉爐

1200℃單溫區可傾斜旋轉爐OTF-1200X-4-R是針對無機化合物煅燒，為獲得較好的一致性而設計。特別對于鋰電池負極材料的制備，具有好的效果，且可提高導電性。此外，還可應用在粉體材料上涂層，如LiFePO3、LiMnNiO3等材料的研究和開發。《查看更多》

現在聯系 OTF-1200X-II1200℃開啟式雙溫區管式爐

1200℃開啟式雙溫區管式爐OTF-1200X-II最高溫度可達到1200℃，并可通過調節兩個獨立的控溫程序，使爐管內溫度場形成一梯度。本機可用CVD方法來生長納米材料和制作各種薄膜。《查看更多》

現在聯系 OTF-1200X-S1200℃微型開啟式管式爐

1200℃微型開啟式管式爐OTF-1200X-S是小型管式爐，最高工作溫度為1200℃，最大功率為1200W，可配置直徑為1“或2“的高純石英爐管。爐管兩端配置一對不銹鋼法蘭，設有機械壓力表、不銹鋼截止閥和寶塔嘴接頭，允許樣品在真空和氣體保護下進行燒結。《查看更多》

現在聯系無微型PECVD系統：

這款小型PECVD，其腔體為 3*dia× 16“L的石英腔體，而且加熱圈在石英腔體內部對樣品進行加熱，此系統配有2通道混氣系統和雙旋機械泵。整套儀器都按放在一個移動架上，以便于實驗操作。等離子腔體內部的最高溫度可以達到400℃，采用程序化控溫。此款小型廉價的PECVD系統對于薄膜生長和納米線的制作是一款很好的選擇。《查看更多》

現在聯系 OTF-1200X-Ⅲ-R5-PECVD1200℃三溫區PE粉體回轉爐系統

OTF-1200X-III-R5-PECVD是一款1200℃等離子增強化學氣相沉積三溫區回轉管式爐系統（R-PECVD），等離子增強系統的引入可在相對較低的溫度下實現粉末表面的包覆復合、核殼結構制備等工藝過程。自動進出料系統可實現連續生產，可保證在氣氛保護環境下進行粉體的進給和收集，包含射頻電源（帶自動匹配功能）、四通道質子流量計控制系統及真空泵系統，可由PLC觸摸屏或PC電腦控制，使用方便快捷。《查看更多》

現在聯系 OTF-1500X-Ⅱ-4CV-PE-SL三溫區1500℃PECVD系統

OTF-1500X-III-4CV-PE-SL是一款三溫區1500℃的PECVD管式爐系統，該設備由射頻電源、1500℃三溫區管式爐、多通道質子混氣系統和真空系統組成。此款PECVD系統可廣泛應用于生長納米線、石墨烯及薄膜材料領域。《查看更多》

現在聯系 OTF-1200X-S-Ⅱ-R-4CV-PE1200℃等離子增強小型PECVD回轉爐系統

OTF-1200X-S-II-R-4CV-PE是一款1200℃PECVD等離子體增強氣相沉積由射頻電源、雙溫區管式爐、4通道質子流量計控制系統、性能優異的真空泵及水冷機組成。此套完整的設備系統特別適合用于無機復合粉末的熱處理以及粉未表面的改性處理工藝中（如：粉體摻雜（空穴、間隙原子）、表面改性、表面包覆及制備鋰離子電池陰極粉末的導電涂層等）。《查看更多》

現在聯系 OTF-1200X-50Ⅱ4CV-PE-MSL帶有預熱系統的滑動PECVD

OTF-1200X-50-1I-4CV-PE-MSL是一款雙溫區的PECVD管式爐系統，組成部分為500W的射頻發生器、滑動速度可控的雙溫區滑軌爐，預熱爐（作用為使固體原料蒸發）和德國進口的無油泵。此款PECVD對于生長納米線或用CVD方法來制作各種薄膜是一款新的探索工具。《查看更多》

現在聯系 OTF-1200X-PESDSF-50雙爐體滑動PECVD系統-循環手套箱

OTF-1200X-PESDFG-50是一款雙爐體滑動的PECVD系統，連接循環手套箱。此款設備中石英爐管與循環手套箱連接，可利用CVD方法，將樣品處理后直接移入到氣氛保護環境下的手套箱中。爐體采用滑動式，可在實驗室中對樣品進行快速加熱和快速冷卻。此款儀器特別適合新一代納米材料和二維晶體材料的探索研究。《查看更多》

現在聯系 OTF-1200X-Ⅱ-4CV-PE-SL-UL滑動式雙溫區PECVD

OTF-1200X-1I-4CV-PE-SL是一款滑動式雙溫區PECVD 管式爐系統。該系統包含等離子射頻電源，80mm 0D1800mm L的滑動式雙溫區管式爐，4通道質量流量供氣系統和機械泵機組，可用于生長納米或石墨烯材料。《查看更多》

現在聯系 OTF-1200X-50S-PE-SL小型滑動PECVD管式爐系統

OTF-1200X-50-PE-SL是一款小型滑動開啟式PECVD系統。此套設備配有等離子射頻電源，直徑為50mm的開啟式管式爐（帶有真空法蘭和連接管道）及機械泵組成。該設備模型可更新為不同類型的PECVD 系統，且設備性價比較為理想《查看更多》

現在聯系 OTF-1200X-50S-PE小型PVE管式爐系統

OTF-1200X-50S-PE是一款小型等離子體氣相沉積管式爐系統（PECVD）。該設備配有等離子射頻電源，開啟式管式爐（帶有真空法蘭和連接管道）及一個直聯式雙旋機械泵。此套設備模型可組合為不同類型的PECVD系統，且設備性價較為理想。《查看更多》

現在聯系 OTF-1200X-50-4CLV-PE4路質子混氣管式PECVD系統帶滑軌

為使化學反應能在較低的溫度下進行，常利用等離子體的活性來促進反應，這種方法稱為等離子體增強化學氣相沉積法(PECVD)。加熱爐設備的內爐膛表面涂有美國進口的高溫氧化鋁涂層，可提高設備的加熱效率，同時也可延長設備的使用壽命。《查看更多》

現在聯系 OTF-1200X-80-Ⅱ-4CV-CMPE智能雙溫區PECVD系統

OTF-1200X-80-I-4CV-CMPE-SL是傳統PECVD與開發的智能通訊模塊組合，可對傳統PECVD實現自動化升級可自由搭配各種系統控制組合自定義CVD系統。是一款滑動式雙溫區PECVD 管式爐系統。該系統包含等離子射頻電源，100mm OD1800mm L的滑動式雙溫區管式爐，4通道質量流量供氣系統和機械泵機組，可用于生長納米或石墨烯材料。《查看更多》

現在聯系 PECVD-8-16中小式（12片，6英寸基片）PECVD系統

PECVD-8-16是一款平行板電容式PECVD系統，適用于中小式生產和實驗，可放置12片6英寸基片。此系統組成：8英寸石英管管式爐，最高溫度為1100℃，一個批量型石墨舟（可放12片基片），1000W射頻電源，和一個4通道混氣系統。此設備特別適用于太陽能電池和二維材料，擴產前測試實驗。《查看更多》

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